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湿法刻蚀机EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X

简要描述:

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湿法刻蚀机EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X湿法刻蚀又称为湿化学刻蚀法。它主要是借助刻蚀剂与待刻材料之间的化学反应将待刻膜层溶解,以达到刻蚀的目的。湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节。

湿法刻蚀机EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X

适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)

光刻胶显影(KrF/ArF

SU8厚胶显影

显影后清洗

PostCMP清洗

光罩去胶清洗

光刻胶去除

金属Lift-off处理

刻蚀微刻蚀处理

适用基底的尺寸范围

型号

可满足尺寸范围

EDC-650-23

小于或等于  6英寸(150mm直径圆片或5x5英寸(125mm边长方片

EDC-650-8

小于或等于  8英寸(200mm直径圆片或7x7英寸(175mm边长方片

EDC-650-15

小于或等于12英寸(300mm直径圆片或9x9英寸(225mm边长方片

EDC-650-X

可根据用户特殊要求订制设备

 

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